Твердотельная электроника, микроэлектроника и...

Main
Твердотельная электроника,...

Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника: межвузовский сборник научных трудов Вып. 19

А. В. Строгонов ответственный редактор [и др.]

0 / 5.0

Quanto ti piace questo libro?

Qual è la qualità del file?

Scarica il libro per la valutazione della qualità

Qual è la qualità dei file scaricati?

Anno:

2020

Lingua:

russian

Pagine:

180

ISBN 10:

5773108992

ISBN 13:

9785773108993

File:

PDF, 5.50 MB

IPFS:

,

russian, 2020

Leggi Online

La conversione in è in corso

La conversione in non è riuscita

Puoi essere interessati a

Бабушкина Л. Г. — Конструирование и технология производства микросхем

Шилова О. А. — Золь-гель технология микро- и нанокомпозитов

Мансуров Г.Н., Петрий О.А. — Электроxимия тонкиx металлическиx пленок.

Кувшинов, А. М. — Основы микро- и наноэлектроники. Конструкция и технология микросхем

Колесов Л. — Введение в инженерную микроэлектронику

Пономарев Михаил Федорович — Конструкция и расчет микросхем и микроэлементов ЭВА

Рейнгольд П. — Транзисторы.Физическме основы и свойства

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. — Технология интегральной электроники

Глазачев А.В., Петрович В.П. — Физические основы электроники

Ануфриев Л.П., Бордусов С.В. и др. — Технология интегральной электроники

Деулин Б.И. — Элементная база электроники

Петров В.В., Королев А.Н. — Наноразмерные оксидные материалы для сенсоров газов

Митяшев Б.Н. — Электронные приборы

— Кремний-2014. Тезисы докладов X Конференции по актуальным проблемам физики, материаловедения, технологии и диагностики кремния, нанометровых структур и приборов на его основе. (Иркутск 7-12 июля 2014 г.)

— Эластомерные транзисторные штампы: обратимые исследования заряженного носителя в органических кристаллах

— Физика и технология микро и наносистем 2010 12-13 ноября

Максимов А.И., Мошников В.А. и др. — Основы золь-гель-технологии нанокомпозитов

Рейви К. — Дефекты и примеси в полупроводниковом кремнии

Гаркуша Ж.М. — Основы физики полупроводников

Ажажа В.М., Ковтун Г.П. — Влияние твердых поверхностных пленок на механические свойства металлов

Мансуров Г.Н., Петрий О.А. — Электрохимия тонких металлических пленок

сост. Т. Н. Патрушева. — Микро- и нанотехнологии

Чопра К.Л., Дас С.Р. (Chopra K.L, Das S.R.) — Тонкопленочные солнечные элементы

Гимпельсон, Радионов. — Тонкопленочные микросхемы для приборостроения и вычислительной техники

М.: ПРОМЕДИА — Особенности синтеза и исследования нанокомпозитных пленок, полученных методом золь-гель-технологии (90,00 руб.)

Ицкович В. М. — Электроника. Часть 2

Антонов О.Г., Крестников Л.А. — Электроника. Ч.1: Письменные лекции

Иванов В.П. , Пручкин В.А. , Зубец В.В. , Попов В.Ф. — Физико-химические основы РЭС. Методическое пособие

Иванов В.П., Пручкин В.А., Зубец В.В., Попов В.Ф. — Физико-химические основы РЭС. Методическое пособие

Матсон Э.А. — Конструкции и технология микрошем

Коледов Леонид Александрович — Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок. Учебник для вузов

Викулин, Иван Михайлович;Стафеев, Виталий Иванович;авт — Физика полупроводниковых приборов

Березин А.С., Мочалкина О.Р. — Технология и конструирование интегральных микросхем [Учеб. пособие для вузов по спец. ''Физика и технология материалов и компонентов электрон. техники'' и ''Микроэлектроника и полупроводниковые приборы'']

Д. В. Громов, А. А. Краснюк — Основной особенностью современного этапа развития микропроцессорных систем (МПС) является завершение перехода от систем, выполненных на основе нескольких больших ИС, к однокристальным микроконтроллерам (МК), которые объединяют в одном кристалле все основ

Мошников В.А., Александрова О.А. (ред.) — Новые наноматериалы. Синтез. Диагностика. Моделирование (лабораторный практикум)

Termini più frequenti

сопротивления

напряжения

характеристики

поверхности

обработки

измерения

государственный

транзистора

университет

воронежский

транзисторов

качестве

сопротивление

структуры

зависимости

значения

кристаллов

технический

элемента

кристалла

исследование

пропускания

пластины

температуры

устройства

корпусов

литература

параметров

позволяет

зависимость

образцов

плазменной

нанесения

напряжение

приборов